Placa base principal de potencia y control para equipos de ultrasonido focalizado de alta intensidad (HIFU 12D). Se encarga de generar, modular y distribuir las señales eléctricas de alta frecuencia hacia los transductores piezoeléctricos de los cartuchos. Controla la conmutación de potencia, la emisión de pulsos (modos Normal y Micro-Pulse MP) y la seguridad del sistema para tratamientos estéticos de lifting facial, tensado de la piel y reducción de grasa corporal.
• Compatible con máquinas de estética HIFU 12D (High-Intensity Focused Ultrasound).
• Equipos HIFU 12D MPT (Micro-Pulsed Technology) y 12D Max Plus.
• Dispositivos de lifting facial no invasivo y tensado de la piel (SMAS).
• Máquinas de contorno corporal y reducción de grasa por ultrasonido.
• Equipos de rejuvenecimiento vaginal por ultrasonido (en modelos de mangos duales).
• Ventilador de refrigeración DC preinstalado con disipador de calor central.
• Conectores de salida de radiofrecuencia (RF) tipo SMA dorados.
• Conectores de señal y alimentación tipo JST/Molex blancos de múltiples pines.
• Capacitores de película de alta potencia y relés de conmutación integrados.
• Inductores toroidales de cobre para filtrado y generación de frecuencia.
• Versión de PCB: LM-K601-240701_V1.0 (Fecha impresa: 2024-08-06).
• Frecuencias de salida soportadas: 2.0 MHz, 4.0 MHz, 5.5 MHz (estándar para cartuchos HIFU 12D).
• Potencia de operación soportada por el equipo: 650W a 800W aproximadamente.
• Modos de disparo controlados: Modo Normal (puntos) y Modo MP (Micro-Pulso/Línea).
• Refrigeración: Activa mediante ventilador DC de 7 aspas integrado en el disipador.
• Canales de salida: Múltiples canales RF para soportar mangos duales simultáneos.
